某半导体器件存储芯片制做厂在晶圆工作步骤中，选用硅烷实行硅外延性有，废气排放干洗塔会产生高氨水浓度含硅工业污水。工业污水极具pH起伏大（2-11）、硅浓度高的共同点，传统的外理做法易有硅垢拥堵间题。 污废水 组成及源头 电镀废水通常组成成分为： 容解性硅酸盐 ：SiO₂含量达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢氧化的钠 ：洗涤剂剂塔耐酸碱洗涤剂剂液残余 粉末硅 ：nm级SiO₂悬浊液 痕量砷 ：原材料杂质残渣带 工作技术过程 创新性适用"两极中合+膜过虑+汽化晶粒"鑫霖环保： 特级中合 ：用CaO调准pH至4-5，生成二维码硅酸钙沉淀自己，硅彻底清除率60%。 2级中合 ：加Na₂CO₃将pH升级至9，进这一步析出余下硅，并接用镁剂除砷。 反渗透装置系统的 ：0.02μm陶瓷制品膜滤过nm级硅颗料，通量安全稳定在80LMH。 MVR挥发器 ：精浓高盐工业废水，心得出Na₂SO₄副物品，水中水回用率超90%。 终结治疗效果 总硅从1500mg/L减至5mg/L下类 砷浓度从0.8mg/L减少为0.01mg/L 系统无水垢自动运行高于2年 年出售盐酸钠晶胞约800吨